_2025031780bafae8.png "國創(chuàng)(XSEMI)")
近期，公司獲得兩項國內(nèi)授權(quán)發(fā)明專利，分別為《ZL202010759560.0一種阻漿精準配比方法、介質(zhì)及終端設(shè)備》和《ZL202110946690.X一種銅漿及其制備方法與應(yīng)用》。截至目前，風華高科已累計獲得授權(quán)專利602件，其中發(fā)明專利306件。
《一種阻漿精準配比方法、介質(zhì)及終端設(shè)備》
該專利公開了一種阻漿精準配比方法，對不同的配比范圍設(shè)置對應(yīng)的曲線方程式,通過建立精準的數(shù)學模型，可以精準計算出所需阻值的配比數(shù)值，實現(xiàn)免試漿料，從而減少配漿生產(chǎn)周期70%以上，降低人工成本30%以上。
該專利涉及銅端電極漿料配方及制備方法與應(yīng)用，該方法制備的銅漿適用于MLCC超大規(guī)格或超小規(guī)格貼片電容，比傳統(tǒng)MLCC銅端電極漿料使用浸封工藝平整好，可靠性高。
風華高科始終堅持科技創(chuàng)新，注重主營產(chǎn)品的知識產(chǎn)權(quán)的挖掘與布局，努力提升企業(yè)技術(shù)競爭優(yōu)勢，不斷提升企業(yè)知識產(chǎn)權(quán)創(chuàng)造、保護、運用、管理的能力，使技術(shù)創(chuàng)新成果與知識產(chǎn)權(quán)保護無縫結(jié)合，增加產(chǎn)品附加值，著力提升企業(yè)核心競爭力，逐步鞏固提升市場地位和競爭優(yōu)勢。
